高分子科学前沿3月3日讯：浙江大学高超教授等NML封面文章：高迁移率大面积石墨烯纳米膜

成果亮点

以复合氧化石墨烯和聚合物为构建单元，结合“基底替换”策略，完成了大面积、宽厚度范围石墨烯纳米膜的可控制备；

石墨烯纳米膜高的结晶度和厚度赋予了其强的光和物质相互作用（X波段和中红外区域），在电磁屏蔽和中红外探测等领域表现优异。

成果出处

该工作以“Flexible large-area graphene films of 50-600 nm-thickness with high carrier mobility”为题发表在《Nano-Micro Letters》上（Nano-Micro Lett. 15, 61 (2023).DOI:10.1007/s40820-023-01032-6），由浙江大学高超教授团队与杭州国际科创中心彭蠡研究员、深圳大学谢杨苏教授团队，中国科学院王晓教授与杭州高稀科技有限公司合作完成，论文的第一作者为浙江大学博士生罗诗雨。

研究背景

大面积、宽厚度范围、高结晶石墨烯纳米膜的制备尚未实现。目前，常见的石墨烯纳米膜制备方法有两种：化学气相沉积、湿法组装。化学气相沉积策略对生长过程的控制只能改善薄膜制备中的部分问题，例如厚度均匀性、堆叠构象等，至今未有完善的石墨烯纳米膜材料可控制备理论的报道。湿法组装策略在石墨烯纳米膜大面积制备、厚度及均匀性控制、缺陷修复、界面污染等方面有着天然的优势，结合氧化石墨烯二维框架结构及其易改性特征，有望在短时间内实现石墨烯纳米膜的可控制备。

主要内容

该工作以商业化的高烯®单层氧化石墨烯（GO）/聚丙烯腈（PAN）薄膜为前驱体，利用“基底替换”和协同石墨化策略，制备了大尺寸和紧密堆叠的组装石墨烯纳米膜（nMAG），其横向尺寸~20厘米；厚度范围为50-600nm。PAN的引入，可以降低薄膜和基底的界面能，削弱界面分离对基底材料和结构的依赖性，进而实现水表面张力剥离；高温处理过程PAN可以作为气体逸散通道，促进气体逸散；此外，氧化石墨烯可以催化PAN二维结晶，形成完整的石墨烯晶格。nMAG具有良好的电学性能：载流子迁移率 1540cm2 V-1s-1；电导率，2.04MS m-1；载流子寿命4.7ps。将其应用于电磁屏蔽，nMAG的高导电性将其达成商用最小屏蔽效果（20dB）的材料厚度降低到了100nm；将其应用于红外探测，强光致热发射(PTI)效应将扩展了石墨烯/硅二极管的响应波长从1.5μm扩展到了4μm。此外，通过将200nm厚的nMAG层层组装，降低薄膜气体逸散阻力，进而抑制气囊的产生。所制备10 μm厚的石墨烯薄膜表现出了较低的折皱密度以及高的导热系数(1581W m-1 K-1)。

大面积自支撑石墨烯纳米膜制备

图1 自支撑超薄GO/PAN膜的制备方法

基材替换策略包括四个过程:Mayer-rod涂敷、水辅助界面分离、溶剂替换(乙醇)和粗糙基材上干燥分离。在基板剥离过程中，PAN作为物理交联剂，削弱了界面结合能，保证了水面膜的完整性。该方法规避了传统自下而上方法对纳米膜强度、衬底结构、刻蚀剂和转移剂(污染物)的严格要求。最后得到横向尺寸为20cm的独立自支撑的纳米膜。增加模具尺寸可以得到更大尺寸的GO/PAN纳米膜。基于这种简单、干净的策略，可以在二维材料或聚合物上制备具有大面积和宽厚度的多功能自支撑纳米膜。

（本刊有删节）详情见高分子科学前沿