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东岳国产离子膜试用效果初显何时能够踏上金光大道?
《中国化工报》记者 郁红 / 时间:2013-06-14 13:41:31
  据中化新网2013年6月13日讯 在5月底召开的2013年全国烧碱行业技术年会上,国产离子膜的应用成为与会代表讨论的热点。国产离子膜已诞生4年,它的推广应用情况究竟如何?企业在应用时有哪些担心?国产离子膜未来应朝什么方向发展?大规模推广应用还需要开展哪些工作?记者对此进行了调研采访。
  翻开世界氯碱离子膜的发展历史,我们看到了这样的一组数据:1964年,美国杜邦公司成功开发出了全氟磺酸树脂,商品名为Nafion;1975年由日本旭化成公司开发出全氟羧酸膜;1980年美国杜邦公司开发出900系列高性能全氟羧酸全氟磺酸复合膜;1983年日本旭硝子公司开发出800系列高性能全氟羧酸全氟磺酸复合膜;1987年日本旭化成公司开发出高性能全氟磺酸全氟羧酸复合离子膜;2009年山东东岳集团开发出DF988高性能全氟磺酸全氟羧酸复合离子膜;2012年山东东岳集团开发出DF2801高性能全氟磺酸全氟羧酸复合离子膜。
  虽然在开发成功的时间点上,我国明显滞后于美日等国,但是从开发的效率上看,国外用了几十年的时间,而国产膜从真正开始研发到成功,只用了8年左右的时间,而且经过十余家企业的试用,取得了较好的效果。
  记者从2013年全国烧碱行业技术年会上获悉:经过在营创三征(营口)精细化工有限公司的试用,国产高强度DF988离子膜的检测指标已达到和部分超过国外同类型膜水平。其在DD350电解槽上的应用运行数据表明:从强度性能上看,DF988膜将能满足当前所有电解槽对离子膜的强度要求;能满足其他槽型对离子膜抗起泡性能的要求;比国外同类产品具有较低的膜电阻,但电流效率与之相同;作为无牺牲芯材离子膜,建议在电流密度≤4.5千安/平方米的电解槽上使用。据了解,在所有的电解槽中,DD350是有效电极面积最大的槽型,对离子膜强度要求最高,此前唯一满足DD350配套强度要求的是杜邦N966膜。
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